Parylene材料

联系方式

深圳市东田精密光电有限公司东莞分公司

  话:0769-87566899

  真:0769-87566399

  箱:dongtian@dt-parylene.com

  址:www.dt-parylene.com

  址:东莞市塘厦镇科苑城鹿苑路168号乐科工业园A栋

沉积工艺的过程

    Parylene采用了一种独特的化学气相沉积工艺(CVD)。 
  CVD工艺最早应用于半导体工业的外延生长,整个过程是气态反应,又在真空条件下进行,因而可以获得非常均匀的涂层,达到其它方法难以实现的同形性。

   沉积过程大体可分为三步:                                                   

   1.真空150度条件下将固态原料升华成气态;
   2.650度条件下将气态原料裂解成具有反应活性的单体;
   3.气态单体在室温下沉积并聚合。

  气态单体进入沉积腔室,首先扩散至沉积表面附近,吸附到各个表面 后,开始聚合和结晶的过程,直接形成固体,避免了液相的出现,消除了涂层厚度不均匀和其中的缺陷。
返回顶部

业务咨询蒋小姐
业务咨询陈先生
业务咨询柏先生